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    半导体光刻胶

    光刻胶主要应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,是印刷线路板(PCB)、液晶显示屏(LCD)与半导体产业链的上游关键材料。我国半导体光刻胶技术较国外先进技术 ,仅g线光刻胶与i线光刻胶已经实现部分国产化,而先进制程芯片所需的高端光刻胶ArF、EUV以及电子束等半导体光刻胶尚处于研发阶段。我们团队主要的目标是开发具有完全知识产权的电子束光刻胶、EUV光刻胶和ArF光刻胶。
    研究方向:半导体光刻胶
    团队网站:http://sji.ciac.jl.cn/

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