光刻胶主要应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是印刷线路板（PCB）、液晶显示屏（LCD）与半导体产业链的上游关键材料。我国半导体光刻胶技术较国外先进技术 ，仅g线光刻胶与i线光刻胶已经实现部分国产化，而先进制程芯片所需的高端光刻胶ArF、EUV以及电子束等半导体光刻胶尚处于研发阶段。我们团队主要的目标是开发具有完全知识产权的电子束光刻胶、EUV光刻胶和ArF光刻胶。