1月17日,中山大学光电材料与技术国家重点实验室蔡鑫伦教授及主要技术人员一行来我院访问交流。黄埔材料院副院长王杰,院企合作部部长刘志斌、副部长陈凯聪,装置平台部副部长官春林及相关领域核心科学家、工程师等接待了蔡鑫伦教授一行。
刘志斌陪同蔡鑫伦教授一行参观了我院科技展馆,介绍了我院的建院背景以及在材料领域取得的丰硕成果;同时针对我院“1+1+X”发展战略中的芯片化学材料板块,详细讲解了KrF光刻胶、电子束光刻胶、湿化学品、抛光材料、光敏聚酰亚胺等关键材料的战略布局规划和技术开发成果。
在随后的座谈会上,蔡鑫伦教授介绍了光电子集成芯片领域技术创新及产业化的整体现状,重点就产品应用开发、关键工艺、技术难点及相关工艺材料的需求现状进行了介绍,希望借助黄埔材料院深厚的技术研发实力,开展关键材料的技术攻关与工艺验证合作。王杰表示,我院作为中科院长春应化所“一基地、两核心”大应化发展战略的南部核心,一直积极与企业、高校院所等开展技术开发与成果转移转化合作;同时,黄埔材料院现正全力推进芯片化学材料验证平台建设,以便更好地服务技术团队及企业材料研发需求。会上,刘志斌还详细介绍了芯片化学材料验证平台的建设目标及各阶段设备引进部署,双方就芯片材料及验证平台的需求与合作开展了深入交流。
中山大学光电材料与技术国家重点实验室由国家科技部和广东省共同建设,主要研究方向为:发光和显示材料与技术研究、光电能量转换材料与技术研究、光电子集成器件与技术研究、光电材料合成与制备研究、超快光谱及激光与物质相互作用研究、光电材料物理理论研究等。