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厂 家: 华海清科
型 号: Universal300B
主要技术指标:
抛光样品尺寸:8寸、12寸晶圆
抛光头转速:≤140rpm,误差≤1%
抛光头加压方式:分区加压控制
研磨台直径:30inch(762mm)
具备晶圆实时在位监测功能、终点监测功能
电 话: 020-82879876
主要技术指标:
抛光样品尺寸:8寸、12寸晶圆
抛光头转速:≤140rpm,误差≤1%
抛光头加压方式:分区加压控制
研磨台直径:30inch(762mm)
具备晶圆实时在位监测功能、终点监测功能

应用情况
Universal 300B 为化学机械抛光机,利用磨损中“软磨硬”原理,实现被抛光表面物质高效及高质量去除,从而满足被抛光面局部平坦化和全局平坦化工艺要求,配备8寸、12寸两个抛光头,可实现8寸、12寸晶圆的平坦化加工,适用于氧化物、氮化物等介质材料,以及铜、钨等金属材料进行表面平整化处理。
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